DE4036611A1

DE4036611A1 - Vorsensibilisierte platte

Info

Publication number: DE4036611A1
Application number: DE4036611A
Authority: DE
Inventors: Tatsuji Higashi; Mitsumasa Tsuchiya; Noboyuki Kita
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1989-11-20
Filing date: 1990-11-16
Publication date: 1991-05-23
Also published as: JPH03161753A; US5069999A

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft eine vorsensibilisierte Platte zur Verwendung bei der Herstellung einer lithographi schen Druckplatte, die es ermöglicht, Drucksachen ohne Ver wendung von Befeuchtungswasser herzustellen.

Es wurde eine Vielzahl von vorsensibilisierten Platten zur Verwendung bei der Herstellung einer lithographischen Druckplatte, die kein Befeuchtungswasser erfordert, vorgeschlagen (die vorsensibilisierte Platte wird nachstehend als "wasserlose vorsensibilisierte Platte" und die erhaltene lithographische Druckplatte als "wasserlose lithographische Druckplatte" bezeichnet). Darunter besitzen solche, die ein Substrat mit einer in dieser Reihenfolge darauf angeordneten photopolymerisierbaren, lichtempfindlichen Schicht und einer Siliconkautschukschicht umfassen, ausgezeichnete Qualität, und Beispiele dafür sind beispielsweise in den JP-PS 54-26 923 und 56-23 150 offenbart. Diese photopolymerisierbaren lichtempfindlichen Schichten erfahren eine Polymerisationsreaktion durch eine Radikalpolymerisation, die durch Sauerstoff inhibiert wird. Aus diesem Grund schlägt die JP-OS 50-50 101 die Verwendung einer sauerstoffundurchlässigen Überzugsschicht aus einer Substanz, wie Polyethylenterephthalat, Cellophan, Polyvinylidenchlorid, Polyvinylchlorid, Polyvinylalkohol, Polypropylen oder Polyethylen, vor. Wenn ein Decküberzug, erhalten aus einem wenig sauerstoffdurchlässigen Polyethylenterephthalat oder Polyvinylidenchlorid, verwendet wird, wird die Polymerisation nicht durch Sauerstoff inhibiert, sondern die Polymerisationsreaktion wird in halbbelichteten und/oder unbelichteten Teilen der lichtempfindlichen Schicht initiiert, sobald die vorsensibilisierte Platte, die nicht belichtet oder bildweise belichtet ist, unter Bestrahlung mit weißem Licht stehengelassen wird, wodurch sich das sogenannte "Verschleierungs"-Phänomen ergibt, und es ist dementsprechend unmöglich, die Platte zu entwickeln. Wenn Polyethylen oder Polypropylen, das eine relativ hohe Sauerstoffdurchlässigkeit bzw. -permeabilität besitzt, verwendet wird, entsteht das Problem der "Verschleierung" nicht, auch wenn die Platte unter Bestrahlung mit weißem Licht stehengelassen wird; wenn sie jedoch mit einem Vakuumkontaktdrucker bildweise belichtet wird, variiert der Polymerisationsinhibierungsgrad in Abhängigkeit von dem Grad des Vakuums des Druckers, und dementsprechend sind die Empfindlichkeit und die Tonwiedergabe zwischen dem Mittelteil und dem Randteil der Platte verschieden.

Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es deshalb, eine was serlose vorsensibilisierte Platte zur Verfügung zu stellen, die keine "Verschleierung" verursacht, auch wenn sie unter Bestrahlung mit weißem Licht stehengelassen wird und deren Empfindlichkeit nicht durch den Grad des Vakuums gegenteilig beeinflußt wird, wenn die Platte mit einem Vakuumkontakt drucker belichtet wird.

Die Erfinder der vorliegenden Erfindung haben verschiedene Untersuchungen durchgeführt, um die vorstehende Aufgabe zu lösen, und als Ergebnis wurde gefunden, daß eine wasserlose vorsensibilisierte Platte, deren Photopolymerisation durch Sauerstoff nicht stark beeinflußt wird, erhalten werden kann unter Verwendung eines in einem organischen Lösungsmittel löslichen Polyurethanharzes oder Polyamidharzes als Bindemittel und eines Photopolymerisationsinitiators, umfassend eine Kombination aus einer aromatischen Aminocarbonylverbindung mit einer spezifischen aromatischen Carbonylverbindung in einer photopolymerisierbaren lichtempfindlichen Schicht einer wasserlosen vorsensibilisierten Platte, die ein Substrat mit einer in Reihenfolge darauf vorgesehenen photopolymerisierbaren lichtempfindlichen Schicht, Siliconkautschukschicht und transparente Deckschicht umfaßt, und unter Verwendung eines biaxial orientierten Polypropylenfilms mit einer relativ hohen Sauerstoffpermeabilität bzw. -durchlässigkeit als transparenter Deckschicht.

Erfindungsgemäß wird somit eine wasserlose vorsensibilisierte Platte zur Verfügung gestellt, die ein Substrat mit, in Reihenfolge darauf angeordnet,

(1) einer polymerisierbaren lichtempfindlichen Schicht, die ein Monomer oder Oligomer mit wenigstens einer photopolymerisierbaren olefinisch ungesättigten Doppelbindung, ein in einem organischen Lösungsmittel löslichen Polyurethanharz oder Polyamidharz, das bei Raumtemperatur fest ist und Filmbildungseigenschaften besitzt, und einen Photopolymerisationsinitiator umfaßt;
(2) einer vernetzten Siliconkautschukschicht und
(3) einer transparenten Deckschicht umfaßt, die dadurch gekennzeichnet ist, daß der Photopolymerisationsinitiator eine Dialkylaminoarylcarbonylverbindung und wenigstens eine Verbindung, gewählt aus der Gruppe, bestehend aus Xanthonen, Thioxanthonen, Acridonen, Benzophenonen, die keine Dialkylaminogruppe tragen, Benzanthronen und Anthrachinonen, umfaßt und daß die transparente Deckschicht aus einem biaxial orientierten Polypropylenfilm mit einer Dicke von 6 bis 22 µm und einer Sauerstoffpermeabilität bzw. -durchlässigkeit von 900 bis 10 000 cm³/m²/24 h/atm (bei 20°C) gebildet wird.

Die vorliegende Erfindung wird nachstehend näher erläutert.

Die wasserlose lithographische Druckplatte muß eine ausreichende Flexibilität besitzen, damit sie auf einer üblichen Druckwalze bzw. -presse verwendet werden kann und der Belastung, die während des Druckvorgangs darauf aufgebracht wird, widerstehen kann. Aus diesem Grund sind typische Substrate beispielsweise beschichtetes Papier, eine Metallplatte, wie eine Aluminiumplatte, ein Kunststoffilm, wie ein Polyethylenterephthalatfilm, eine Kautschukplatte oder eine Verbundplatte davon. Diese Substrate können eine Grundier- bzw. Primerschicht auf ihrer Oberfläche zur Inhibierung der Lichthofbildung oder dgl. besitzen.

Verschiedene Arten von Grundierschichten können erfindungsgemäß für verschiedene Zwecke, wie zur Verbesserung der Adhäsion zwischen dem Substrat und der photopolymerisierbaren, lichtempfindlichen Schicht als auch zur Inhibierung der Lichthofbildung, zur Verbesserung der Druckeigenschaften und ggf. zur Verbesserung der Färbbarkeit der Bilder verwendet werden. Beispiele dafür sind solche, die durch Belichten einer Vielzahl von lichtempfindlichen Polymeren vor der Aufbringung auf die photopolymerisierbare, lichtempfindliche Schicht zum Härten der Polymere erhalten werden, wie in der JP-PS 60-2 29 031 offenbart; solche, die durch Wärmehärten von Epoxyharzen erhalten werden, wie in der JP-PS 62-50 760 offenbart; und solche, die durch Härten von Gelatinefilmen erhalten werden, wie in der JP-PS 63-1 33 153 (US-PS 48 61 698) offenbart; als auch gehärtete Caseinfilme, gehärtete Polyurethanharzfilme, gehärtete Polyamidfilme, gehärtete Styrol/Butadienkautschukschichten, gehärtete carboxylmodifizierte Styrol/Butadien-Kautschukschichten, gehärtete Acrylnitril/Butadien-Kautschukschichten, gehärtete carboxylmodifizierte Acrylnitril/Butadien-Kautschukschichten, gehärtete Polyisoprenschichten und gehärtete Acrylat-Kautschukschichten. Diese Grundierschichten können in jeder Kombination verwendet werden und können weiterhin in Abhängigkeit von dem Zweck Farbstoffe, pH-Indikatoren, Ausdruckmittel, Photopolymerisationsinitiatoren, Hilfsmittel zur Adhäsion, wie polymerisierbare Monomere, Diazoharze, Silan-Kupplungsmittel, Titanat-Kupplungsmittel, Aluminiumkupplungsmittel, Isocyanat-Verbindungen und carboxylgruppenhaltige Harze und Additive, wie weiße Pigmente und Siliciumdioxidpulver, umfassen. Die Menge der Grundierschicht, die aufgebracht wird, liegt im allgemeinen bei 0,5 bis 20 g/m² (auf Trockenbasis).

Die photopolymerisierbare lichtempfindliche Schicht, die erfindungsgemäß verwendet wird, umfaßt (i) ein Monomer oder ein Oligomer mit wenigstens einer photopolymerisierbaren, olefinisch ungesättigten Doppelbindung; (ii) ein in einem organischen Lösungsmittel lösliches Polyurethanharz oder Polyamidharz, das bei Raumtemperatur fest ist und Filmbildungseigenschaften besitzt, und (iii) einen Photopolymerisationsinitiator, der Dialkylaminoarylcarbonylverbindungen und wenigstens eine Verbindung, gewählt aus der Gruppe, bestehend aus Xanthonen, Thioxanthonen, Acridonen, Benzophenonen die keine Dialkylgruppe tragen, Benzanthronen und Anthrachionen, umfaßt. Die lichtempfindliche Schicht kann ggf. (iv) andere in einem organischen Lösungsmittel lösliche polymere Verbindungen mit Filmbildungseigenschaften umfassen.

Jede Komponente der lichtempfindlichen Schicht wird nachste hend näher erläutert.

Komponente (i) Monomer oder Oligomer mit wenigstens einer photopolymerisierbaren, olefinisch unge sättigten Doppelbindung

Als vorstehende Monomere oder Oligomere, die erfindungsgemäß geeignet sind, können beispielsweise monofunktionelle (Meth)acrylate, wie Polyethylenglykol(meth)acrylat, Polypropylenglykol(meth)acrylat, Phenoxyethyl(meth)acrylat, 2-(Meth)acryloxyethylwasserstoffphthalat und 2-(Meth)acryloxyethylwasserstoffsuccinat; Polyethylenglykoldi(meth)acrylat, Polypropylenglykoldi(meth)acrylat, Trimethylolethantri(meth)acrylat, Neopentylglykoldi(meth)acrylat, Pentaerythrittri(meth)acrylat, Pentaerythrittetra(meth)acrylat, Dipentaerythrithexa(meth)acrylat, Hexandioldi(meth)acrylat, Trimethylolpropantri(acryloyloxypropyl)ether, Tri(acryloyloxyethyl)isocyanurat, Calcium(meth)acrylat und Natrium(meth)acrylat; solche die durch Zugabe von Ethylen oxid oder Propylenoxid zu polyfunktionellen Alkoholen, wie Glycerin und Trimethylolethan, und anschließendes Umwandeln des Addukts in (Meth)acrylate erhalten werden; Urethanacry late, wie die in den JP-OS 48-41 708 und 50-6 034 und der JP-PS 51-37 193 offenbarten; Polyesteracrylate, wie in der JP-PS 48-64 183 und den JP-OS 49-43 191 und 52-30 490 offen bart; polyfunktionelle (Meth)acrylate, wie Epoxyacrylate, erhalten durch Umsetzen von Epoxyharzen mit (Meth)acrylsäu re; und N-Methylolacrylamidderivate, wie in der US-PS 45 40 649 offenbart, genannt werden. Zusätzlich ist es ebenfalls möglich, solche, die in Journal of the Adhesion Society of Japan, Vol. 20, No. 7, Seiten 300-308 (1948) offenbart sind, als photohärtbare Monomere oder Oligomere zu verwenden. Weiterhin schließen Beispiele für Monomere oder Oligomere ebenfalls Reaktionsprodukte von Alylisocyanat oder einer Verbindung

mit (Meth)acrylatverbindungen, die eine Hydroxylgruppe tra gen, wie Hydroxyethyl(meth)acrylat, Hydroxypropyl(meth)acrylat, Polyethylenglykolmono(meth)acrylat, Polypropylenglykolmono(meth)acrylat, Pentaerythrittri(meth)acrylat, Dipentaerythrittetra(meth)acrylat, Verbindungen der folgen den Formeln:

worin R ein Wasserstoffatom oder eine Methylgruppe bedeutet; Reaktionsprodukte von Allylglycidylether mit (Meth)acrylatverbindungen, die eine Carboxylgruppe tragen, wie (Meth)acrylsäure, (Meth)acryloxyethylwasserstoffphthalat, (Meth)acryloxyethylwasserstoffsuccinat, (Meth)acryloxyethylwasserstoffmaleat, (Meth)acryloxyethylwasserstofftetrahydrophthalat und (Meth)acryloxyethylwasserstoffhexahydrophthalat; Reaktionsprodukte von Allylalkoholen oder 2-Allyloxyethylalkoholen mit den vorstehenden (Meth)acrylatverbindungen, die eine Carboxylgruppe tragen, oder einem Säurechlorid davon; und Reaktionsprodukte von Aminoverbindungen, wie Xyloldiamin, Ethylendiamin, Isophorodiamin oder Monoethanolamin, mit Glycidylmethacrylat oder Allylglycidylether, ein.

Komponente (ii) In einem organischen Lösungsmittel lös liches Polyurethanharz oder Polyamidharz, das bei Raumtemperatur fest ist und Film bildungseigenschaften besitzt

Die vorstehenden Polyurethanharze, die erfindungsgemäß ge eignet sind, sind im wesentlichen solche, die durch Umsetzen eines Diisocyanats mit ungefähr äquimolaren Mengen eines Diols erhalten werden, oder solche, die durch Umsetzen eines Diols mit einem leichten Überschuß eines Diisocyanats und anschließendes Aussetzen des Reaktionsprodukts einer Kettenverlängerungsreaktion mit einem Diamin, einem Diol oder Wasser, erhalten werden. Beispiels für Diisocyanate schließen Toluoldiisocyanat, Xylylendiisocyanat, Diphenylmethandiisocyanat, Hexamethylendiisocyanat, Isophorondiisocyanat, Diphenyletherdiisocyanat, hydriertes Xylylendiisocyanat, Cyclohexandiisocyanat, hydriertes Diphenylmethandiisocyanat, Tetramethylxyloldiisocyanat und Lysindiisocyanat ein; und typische Beispiele für Diole sind Polypropylenglykol, Polyethylenglykol, Polytetramethylengly kol, Ethylenoxid-Propylenoxid-Copolymer, Tetrahydrofuran-Ethylenoxid-Copolymer, Tetrahydrofuran-Propylenoxid-Copolymer, Polyesterdiol, wie Polyethylenadipat, Polydiethylenadipat, Polypropylenadipat, Polyhexamethylenadipat, Polyneopentyladipat, Polyhexamethylenneopentyladipat, Polyethylendiethylenadipat und Polyethylenhexamethylenadipat; Poly-ε-caprolactondiol, Polyhexamethylencarbonatdiol und Polytetramethylenadipat.

Zusätzlich können verzweigte Polyurethanharze ebenfalls verwendet werden. Beispiele dafür sind solche, die durch Ersetzen eines Teils oder des ganzen Diisocyanats durch Isocyanatverbindungen mit wenigstens drei funktionellen Gruppen erhalten werden, wie solche, die durch Zugabe von 3 Mol 2,4-Toluoldiisocyanat zu 1 Mol Trimethylolpropan, Undecantriisocyanat, Dicycloheptantriisocyanat, 1,8-Diisocyanat-4-isocyanatmethyloctan und gleichzeitiges Ersetzen eines Teils der Diolkomponente durch monofunktionelle Monoalkohole, wie Allylalkohol, Allyloxyethylalkohol, Hydroxyethyl(meth)acrylat, Polyethylenglykolmono(meth)acrylat, Polypropylenglykol(meth)acrylat, Hydroxypropylmono(meth)acrylat, Benzylalkohol oder Ethylalkohol zur Einführung von funktionellen Gruppen erhalten werden.

Weiterhin schließen geeignete Beispiele Polyurethanharze, abgeleitet aus Diolkomponenten mit einer speziellen funktionellen Gruppe, wie Alkyldialkanolamin, (meth)acrylatgruppenhaltige Diole und carboxylgruppenhaltige Diole, ein. Insbesondere ist es ebenfalls möglich, in alkalischem Wasser lösliche Polyurethanharze durch Verwendung von carboxylgruppenhaltigen Diolen zu erhalten, wie in den JP-OS 63-2 87 942 und 63-2 87 943 offenbart.

Die Polyaminharze, die erfindungsgemäß geeignet sind, können beispielsweise bekannte copolymerisierbare Polyamide, löslich in einem organischen Lösuungsmittel, wie einem Alkohol, und N-substituierte Polyamide sein. Insbesondere können bei spielsweise copolymerisierte Amide, wie binäre Copolymere, umfassend eine Polycarpramidkomponente (Nylon 6-Komponente) und eine Polyhexamethylenadipamidkomponente (Nylon 66- Komponente) (Nylon 6/Nylon 66-Copolymere), Copolymere, erhalten durch Copolymerisieren von Nylon 6- und Nylon 66- Komponenten mit einer Polyhexamethylensebacamidkomponente (Nylon 610-Komponente), (Nylon 6/Nylon 66/Nylon 610- Copolymere), Nylon 6/66/12-Copolymere, Nylon 6/66/PACM-6- Copolymere und Nylon 6/66/PACM-8-Copolymere, erhalten durch Copolymerisieren von Nylon 6 und Nylon 66-Komponenten mit einer dritten Komponente, wie einer Polylauroamid-Komponente (Nylon 12-Komponente), Poly-di(p-aminocyclohexyl)methanadipamidkomponente (Nylon PACM-6-Komponente) oder Poly-di(p-aminocyclohexyl)methansuberamidkomponente (Nylon PACM-8-Komponente); als auch N-Methylol, N-Alkoxymethyl- oder N-Allyloxymethylderivate einer Vielzahl von Polyamiden genannt werden. Weiterhin sind ebenfalls solche geeignet, die durch Copolymerisieren von 1,3-Bis(aminomethyl)cyclohexan und Cyclohexan-1,4-dicarbonsäure mit den vorstehend genannten Amidkomponenten erhalten werden, wie in der JP-OS 51-74 704 offenbart.

Als wasserlösliche oder wasserdispergierbare Polyamidharze können beispielsweise Polyamide, die Sulfonsäuregruppen oder Sulfonatgruppen tragen, erhalten durch Copolymerisieren von Natrium-3,5-dicarboxybenzolsulfonat od. dgl., wie in der JP-OS 48-72 250 offenbart; Polyamide mit Etherbindungen, erhalten durch Copolymerisieren von Dicarbonsäuren, Diaminen und cyclischen Amiden mit einer Etherbindung in dem Molekül, wie in der JP-OS 49-43 565 offenbart; Polyamide mit basischen Stickstoffatomen, erhalten durch Copolymerisieren von N,N′-Di(γ-aminopropyl)piperadin oder dgl., und Polyamide, erhalten durch Quaternisieren der Polyamide mit basischen Stickstoffatomen mit Acrylsäure oder dgl., wie in der JP-OS 50-7 605 offenbart, copolymerisierte Polyamide, enthaltend Polyethersegmente mit einem Molekulargewicht von 150 bis 1500, wie in der JP-OS 55-74 537 offenbart; und Polyamide, erhalten durch Ringöffnungspolymerisation von α-(N,N-Dialkylamino)-ε-caprolactam oder durch Ringöffnungscopolymerisation von α-(N,N′-Dialkylamino)-ε-caprolactam und ε-Caprolactam, genannt werden. Andere geeignete Polyamidharze sind beispielsweise Produkte, erhalten durch Additionspolymerisieren von organischen Diisocyanatverbindungen mit Amidverbindungen, deren beide Enden im wesentlichen primäre und/oder sekundäre Amidogruppen sind und die wenigstens eine Amidobindung besitzen.

Komponente (iii) Photopolymerisationsinitiator

Beispiele für die Photopolymerisationsinitatoren, die erfindungsgemäß geeignet sind, sind Kombinationen aus (a) einer Dialkylaminoarylcarbonylverbindung mit (b) wenigstens einer Verbindung, gewählt aus der Gruppe, bestehend aus Xanthonen, Thioxanthonen, Acridonen, Benzanthronen, Benzophenonen (mit der Maßgabe, daß sie keine Dialkylaminogruppe besitzen) und Anthrachinone. Insbesondere sind Beispiele für die Dialkylaminoarylcarbonylverbindungen 4,4′-Bis(dimethylamino)benzophenon (Trivialname: Michler's Keton), 4,4′-Bis(diethylamino)benzophenon (Trivialname: Ethyl-Michler's Keton), 4,4′-bis(dipropylamino)benzophenon und die Verbindung der Formel

wie in der JP-OS 60-63 532 (US-PS 46 61 434) offenbart; Dialkylaminostyrylketonverbindungen, dargestellt durch die folgenden allgemeinen Formeln

worin R¹, R² und R³ jeweils eine Alkyl- oder eine substituierte Alkylgruppe bedeuten und gegebenenfalls R¹ und R² einen Cycloalkylring bilden können, wie in der JP-OS 55-50 001 (US-PS 42 59 432) offenbart; Verbindungen, wie 2-(p-Dialkylaminophenyl)benzoxazol, 2-(p-Dialkylaminophenyl)benzo(4,5)benzoxazol und 2,5-Bis-(p-dialkylaminophenyl)-1,3,4-oxadiazol, worin die Alkylgruppe eine Methyl- oder Ethylgruppe darstellt, wie in der JP-OS 60-84 304 (US-PS 45 94 310) offenbart; und Verbindungen, dargestellt durch die folgenden Formeln

wie in der JP-OS 53-60 718 offenbart.

Spezifische Beispiele für die Xanthone, Thioxanthone, Acridone, Benzophenone (mit der Maßgabe, daß sie keine Dialkylaminogruppe besitzen) und Benzanthrone sind Xanthon, 2-Chlorxanthon, Thioxanthon, 2-Chlorthioxanthon, 2,4-Dimethylthioxanthon, 2,3-Diethylthioxanthon, 2,4-Dichlorthioxanthon, 2,4-Diisopropylthioxanthon, 2-Dodecylthioxanthon, 2-Methyl-(5,8)-ethylesterthioxanthon, Octylester von Thioxanthondicarbonsäure, 1-Choranthrachinon, 2-Chloranthrachinon, 2-Ethylanthrachinon, 2-t-Butylanthrachinon, 1-Chlor-N-methylacridon, 3-Chlor-N-methylacridon, 2,3-Dichlor-N-methylacridon, 2-Chlor-N-ethylacridon, 2-Chlor-N-butylacridon, 3-Chlor-N-benzylacridon, N-Benzylacridon, N-Butylacridon, N-Ethylacridon, Benzophenon, 1-Chlorbenzophenon, 2-Chlorbenzophenon, Benzanthron, 3-Chlorbenzanthron und Dichlorbenzanthron.

Die Gesamtmenge dieser Photopolymerisationsinitiatoren, die der lichtempfindlichen Schicht zugegeben wird, liegt bei 0,1 bis 20 Gew.-%, vorzugsweise bei 3 bis 15 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht der Zusammensetzung für die lichtempfindliche Schicht.

Das Gewichtsverhältnis des Initiators (A) zu dem Initiator (B) liegt bei 10 : 1 bis 1 : 10, vorzugsweise bei 5 : 1 bis 1 : 5.

Komponente (iv) Polymerverbindungen mit Filmbildungseigen schaften, die anders sind als Komponente (ii)

Beispiele für die gegebenenfalls verwendeten anderen in einem organischen Lösungsmittel löslichen polymeren Verbindungen mit Filmbildungseigenschaften, die erfindungsgemäß verwendet werden, sind Methacrylsäurecopolymere, Acrylsäurecopolymere, Crotonsäurecopolymere, Maleinsäurecopolymere, teilveresterte Maleinsäurecopolymere, saure Cellulosederivate, Polyvinylpyrrolidon, Polyethylenoxid, Polyester, ungesättigter Polyester, Polystyrol, Epoxyharze, Phenoxyharze, Polyvinylbutyral, Polyvinylformal, Polyvinylchlorid, Polyvinylalkohol, Polyvinylalkohol, der teilweise in ein Acetal umgewandelt worden ist, Gelatine und wasserlösliche Cellulosederivate.

Zusätzlich schließen Beispiele für polymere Verbindungen, die an den Seitenketten photopolymerisierbare oder photovernetzbare und polyolefinisch ungesättigte Doppelbindungen tragen, Allyl(meth)acrylat-co-(meth)acrylsäure-co gegebenenfalls andere additionspolymerisierbare Vinylmonomere und Alkalimetallsalze oder Aminsalze davon, wie in der JP-OS 59-53 836 (US-PS 46 87 727) offenbart; solche, die durch Umsetzen von Hydroxyethyl(meth)acrylat-co-methacrylsäure- co-alkyl(meth)acrylat und Alkalimetallsalzen oder Aminsalzen davon mit (Meth)acrylsäurechlorid erhalten werden, wie in der JP-PS 59-45 979 offenbart; solche, die durch Zugabe, durch Halbveresterung, von Pentaerythrittriacrylat zu Maleinsäureanhydridcopolymeren und Alkalimetallsalzen oder Aminsalzen davon erhalten werden, wie in der JP-OS 59-71 049 (US-PS 45 37 855) offenbart, solche, die durch Zugabe, durch Halbveresterung, von Monohydroalkyl(meth)acrylat, Polyethylenglykolmono(meth)acrylat oder Polypropylenglykol mono(meth)acrylat zu Styrol-co-maleinsäureanhydrid und Alkalimetallsalzen oder Aminsalzen davon erhalten werden; solche, die durch Umsetzung eines Teils der Carboxylgruppen von (Meth)acrylsäurecopolymeren oder Crotonsäurecopolymeren mit Glycidyl(meth)acrylat und Alkalimetallsalzen oder Aminsalzen davon erhalten werden; solche, die durch Umsetzen von Hydroxyalkyl(meth)acrylatcopolymeren, Polyvinylformalen oder Polyvinylbutyralen mit Maleinsäureanhydrid oder Itaconsäureanhydrid und Alkalimetallsalzen oder Aminsalzen davon erhalten werden; solche, die durch Umsetzen von Hydroxyalkyl(meth)acrylat-co-(meth)acrylsäure mit einem Addukt: 2,4-Tolylendiisocyanathydroxyalkyl(meth)acrylat (1 : 1) und Alkalimetallsalzen oder Aminsalzen davon erhalten werden; (Meth)acrylsäurecopolymer, das teilweise mit Allylglycidylether und Alkalimetallsalzen oder Aminsalzen davon umgesetzt wird, wie in der JP-OS 59-53 836 (US-PS 46 87 727) offenbart; Vinyl(meth)acrylat-co-(meth)acrylsäure und Alkalimetallsalze oder Aminsalze davon; Allyl(meth)acrylat-co-natriumstyrolsulfonat; Vinyl(meth)acrylat-co-natriumstyrolsulfonat; Allyl(meth)acrylat-co-natriumacrylamido-1,1-dimethylethylen sulfonat; Vinyl(meth)acrylat-co-natriumacrylamido-1,1-di methylethylensulfonat; 2-Allyloxyethylmethacrylat-co-meth acrylsäure; und 2-Allyloxyethylmethacrylat-co-2-methacryl oxyethylwasserstoffsuccinat, ein.

Das Verhältnis der Gesamtmenge der Komponenten (ii) und (iv) zu der des Monomers der Komponente (i) liegt vorzugsweise bei 99 : 1 bis 30 : 70, besonders bevorzugt bei 97 : 3 bis 50 : 50.

Andere Komponenten der photopolymerisierbaren, lichtempfindlichen Schicht

Zusätzlich zu den vorstehenden Komponenten kann die photopolymerisierbare, lichtempfindliche Schicht vorzugsweise eine Wärmepolymerisationsinhibitor umfassen, und geeignete Beispiele dafür sind Hydrochinon, p-Methoxyphenol, Di-t-butyl-p-creso, Pyrogallol, t-Butylcatechol, Benzochinon, 4,4′-Thiobis(3-methyl-6-t-butylphenol), 2,2′-Methylenbis(4-methyl-6-t-butylphenol) und 2-Mercaptobenzimidazol. Zusätzlich kann die lichtempfindliche Schicht gegebenenfalls Farbstoffe und/oder Pigmente zum Färben der Schicht als pH-Indikatoren und/oder Leukofarbstoffe als Ausdruckmittel umfassen. Es ist ebenfalls möglich, in der photopolymerisierbare lichtempfindliche Schicht eine geringe Menge einer siliciumorganischen bzw. Silikonverbindung, gewählt aus der Gruppe, bestehend aus Polydimethylsiloxan, methylstyrolmodifiziertem Polydimethylsiloxan, olefinemodifiziertem Polydimethylsiloxan, polyethermodifiziertem Polymethylsiloxan, Silankupplungsmittel, Silikondiacrylate und Silikondimethacrylate, einzuarbeiten. Die photopolymerisierbare, lichtempfindliche Schicht kann weiterhin fluoratomhaltige oberflächenaktive Mittel oder fluoratomhaltige Mittel zur Oberflächenorientierung umfassen, um die Beschichtungseigenschaften der lichtempfindlichen Zusammensetzung zu verbessern. Ein Diazoharz kann der lichtempfindlichen Schicht zugegeben werden, um die Adhäsion zwischen der photopolymerisierbaren, lichtempfindlichen Schicht und der Grundierschicht zu verbessern. Die Menge dieser Additive beträgt im allgemeinen nicht mehr als 10 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht der photopolymerisierbaren, lichtempfindlichen Schicht. Um die Empfindlichkeit der photopolymerisierbaren, lichtempfindlichen Schicht per se zu verbessern, ist es möglich, in die Schicht ein anderes Radikalerzeugungsmittel, wie Hexaarylbiimidazol, wie in den JP-OS 61-1 23 603 und 57-21 401 und der US-PS 45 65 769 offenbart, in einer Menge im Bereich von 0,5 bis 10 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht der lichtempfindlichen Schicht, einzuarbeiten. Daneben ist es ebenfalls möglich, der photopolymerisierbaren, lichtempfindlichen Schicht Siliciumdioxidpulver oder hydrophobes Siliciumdioxidpulver, dessen Oberfläche mit einem Silankupplungsmittel, das eine (Meth)acryloyl- oder Acrygruppe trägt, behandelt worden ist, in einer Menge von nicht mehr als 50 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht der photopolymerisierbaren, lichtempfindlichen Schicht, zuzugeben, um die Adhäsion der lichtempfindlichen Schicht zu der Silikonkautschukschicht, die anschließend darauf aufgebracht wird, zu verbessern, was nachstehend näher beschrieben wird.

Die Zusammensetzung für die vorstehende photopolymerisierbare, lichtempfindliche Schicht wird in einem geeigneten Lösungsmittel, wie 2-Methoxyethanol, 2-Methoxyethylacetat, Methyllactat, Ethyllactat, Propylenglykolmonomethylether, Methanol, Ethanol, Methylethylketon, Wasser oder einer Kombination daraus, gelöst und auf die Oberfläche eines Substrats aufgebracht. Die Beschichtungsmenge liegt geeigneterweise im Bereich von etwa 0,1 bis 10 g/m², vorzugsweise bei 0,5 bis 5 g/m² (nach dem Trocknen).

Die vernetzte Silikonkautschukschicht, die erfindungsgemäß verwendet wird, ist eine Schicht aus teilweise oder vollständig vernetztem Polydiorganosiloxan, umfassend die folgenden wiederkehrenden Einheiten:

worin R eine einwertige Gruppe, wie eine Alkyl-, Aryl- oder Alkenylgruppe oder eine Kombination daraus, die funktionelle Gruppen, gewählt aus der Gruppe, bestehend aus Halogenatomen, Aminogruppen, Hydroxygruppen, Alkoxygruppen, Aryloxygruppen, (Meth)acryloxygruppen und Thiolgruppen, enthalten kann, bedeutet.

Die Silikonkautschukschicht kann gegebenenfalls eine feines Pulver einer anorganischen Verbindung, wie Siliciumdioxid, Calciumcarbonat oder Titanoxid; ein Hilfsmittel zur Adhäsion, wie die vorstehend genannten Silankupplungsmittel, Titanatkupplungsmittel oder Aluminiumkupplungsmittel; und/oder einen Photopolymerisationsinitiator umfassen.

Polysiloxane mit funktionellen Gruppen an ihren Enden und einem Molekulargewicht von mehreren Tausen bis mehreren Hunderttausend werden im allgemeinen als Ausgangsmaterialien für Polymere (Silikonkautschuke) mit der vorstehenden Polysiloxankette als Hauptgerüst verwendet. Die Silikonkautschukschicht kann durch Vernetzen und Härten des Ausgangsmaterials gemäß dem folgenden Verfahren erhalten werden. Mit anderen Worten kann die Silikonkautschukschicht durch Mischen des vorstehenden Polysiloxans mit Hydroxylgruppe(n) an einem oder beiden Enden davon mit einem Silankupplungsmittel, dargestellt durch die folgende allgemeine Formel, Zugabe, wenn notwendig, einer organischen Metallverbindung, wie einer Organozinnverbindung, einer anorganischen Säure oder eines Amins als Katalysator und Kondensieren und Härten des Polysiloxans und des Silankupplungsmittels unter Erwärmen oder bei Raumtemperatur erhalten werden:

R_nSiX_4-n

worin n eine ganze Zahl von 1 bis 3 ist; R wie vorstehend definiert ist; und X einen Substituentn, wie -OH, -OR², -OAc, -O-N=CR²R³, -Cl, -Br oder I (worin R² und R³ gleich oder verschieden sein können und die gleiche Bedeutung wie R besitzen und Ac eine Acetylgruppe bedeutet) bedeutet.

Alternativ dazu kann die Silikonkautschukschicht durch Kondensieren und Härten des Organopolysiloxans, das an seinen Enden Hydroxylgruppe(n) trägt, eines Wasserstoffpolysiloxanvernetzungsmittels und gegebenenfalls eines Silankupplungsmittels, das wie vorstehend definiert ist, erhalten werden.

Geeignete Beispiele für die Silikonkautschukschicht schließen weiterhin eine Silikonkautschukschicht vom Additionstyp, erhalten durch Vernetzen von ≡SiH-Gruppen und -CH=CH-Gruppen durch die Additionsreaktion, ein. Die Silikonkautschukschicht vom Additionstyp wird durch Feuchtigkeit während ihres Härtens kaum beeinflußt, erfährt eine Vernetzung bei hoher Geschwindigkeit, und somit kann eine vernetzte Silikonkautschukschicht mit vorbestimmten physikalischen Eigenschaften leicht gebildet werden. Mit Bezug auf die kondensierte Silikonkautschukschicht, wird wenn eine Carbonsäure in der photopolymerisierbaren, lichtempfindlichen Schicht vorliegt, die Härtung unzureichend in Abhängigkeit von der Art des Vernetzungsmittels, das verwendet wird, während, wenn die Silikonkautschukschicht von Additionstyp verwendet wird, diese ausreichend gehärtet wird, auch wenn eine Carbonsäure in photopolymerisierbaren, lichtempfindlichen Schicht vorliegt. Wie vorstehend erläutert wurde, kann die photopolymerisierbare, lichtempfindliche Schicht eine Carbonsäure im letzteren Fall umfassen, und somit kann die vorsensibilisierte Platte mit einem Entwickler, der hauptsächlich aus Wasser oder einem alkalischen Wasser besteht, entwickelt werden. Deshalb kann die vorsensibilisierte Platte leicht gebildet werden. Die verwendete Silikonkautschukschicht von Additionstyp kann eine solche sein, die durch eine Reaktion eines mehrwertigen Wasserstofforganopolysiloxans mit einer Polysiloxanverbindung mit zwei oder mehr -CH=CH-Bindungen in dem Molekül erhalten wurde und wünschenswerterweise eine solche, die durch Härten und Vernetzen eine Zusammensetzung, die die folgenden Komponenten umfaßt, erhalten wurde:

1) 100 Gew.-Teile eines Organopolysiloxans mit wenigstens zwei Alkylengruppen, vorzugsweise einer Vinylgruppe, die direkt an das Siliciumatom gebunden ist; pro Molekül;
2) 0,1 bis 1000 Gew.-Teile eines Organowasserstoffpoly siloxans mit wenigstens zwei ≡SiH-Bindungen pro Molekül; und
3) 0,00001 bis 10 Gew.-Teile eines Additionskatalysators.

Die Alkylengruppe der Komponente (1) kann entweder in der Mitte oder an den Enden der Molekülkette vorliegen, und das Organopolysiloxan kann organische Substituenten, die anders sind als eine Alkenylgruppe, besitzen, wie substituierte oder unsubstituierte Alkyl- und/oder Arylgruppen. Die Komponente (1) kann eine kleine Zahl von Hydroxylgruppen enthalten. Die Komponente (2) wird mit der Komponente (1) zur Bildung einer Siliconkautschukschicht umgesetzt und dient dazu, der Silikonkautschukschicht Adhäsion zu der photopolymerisierbaren, lichtempfindlichen Schicht zu verleihen. Das Wasserstoffatom der Komponente (2) kann in der Mitte oder an dem Ende der Molekülkette vorliegen, und die Komponente (2) kann ebenfalls andere organische Gruppen als ein Wasserstoffatom enthalten, gewählt aus der Gruppe, bestehend aus solchen, die vorstehend im Zusammenhang mit der Komponente (1) angegeben wurden. Es ist bevorzugt, daß wenigstens 60% der organischen Gruppen der Komponenten (1) und (2) Methylgruppen sind im Hinblick auf das Farbabweisungsvermögen der erhaltenen Silikonkautschukschicht. Die Komponenten (1) und (2) können eine lineare, cyclische oder verzweigte Struktur aufweisen, und das Molekulargewicht wenigstens einer Verbindung davon übersteigt vorzugsweise 1000 im Hinblick auf die physikalischen Eigenschaften der Kautschukschicht, insbesondere übersteigt das Molekulargewicht der Komponente (1) 1000.

Beispiele für die Komponente (1) sind α, ω-Divinylpoly dimethylsiloxan und Methylvinylsiloxan-co-dimethylsiloxan mit Methylgruppen an beiden Enden; Beispiele für die Komponente (2) sind Polydimethylsiloxan mit Wasserstoffatomen an beiden Enden, α, ω-Dimethylpolymethyl wasserstoffsiloxan, Methylwasserstoffsiloxan-co-dimethyl siloxan mit Methylgruppen an beiden Enden und cyclisches Polymethylwasserstoffsiloxan.

Die Additionskatalysatoren, Komponente (3), können aus bekannten gewählt werden; Platinverbindungen sind jedoch besonders bevorzugt, und Beispiele dafür sind elementares Platin, Platinchlorid, Chlorplatinsäure und Platin, das mit Olefinen koordiniert ist.

Die Zusammensetzung zum Erhalt der Silikonkautschukschicht kann gegebenenfalls ein vernetzendes Inhibitormittel, wie ein vinylgruppenhaltiges Organopolysiloxan (beispielsweise Tetracyclo(methylvinyl)siloxan), einen Kohlenstoff-Kohlen stoff-dreifachbindungshaltigen Alkohol, Aceton, Methylethylketon, Methanol, Ethanol oder Propylenglykol monomethylether zur Kontrolle der Härtungsgeschwindigkeit der Zusammensetzung umfassen.

Diese Verbindungen erfahren eine Additionsreaktion und beginnen somit die Härtung sobald die vorstehenden drei Komponenten zusammengemischt sind. In diesem Zusammenhang wird die Härtungsgeschwindigkeit stark erhöht, wenn die Reaktionstemperatur erhöht wird. Deshalb ist es bevorzugt, daß die Zusammensetzung bei hohen Temperaturbedingungen gehalten wird, bei denen die Eigenschaften des Substrats und der photopolymerisierbaren, lichtempfindlichen Schicht nicht geändert werden, bis die Zusammensetzung vollständig ausgehärtet ist zum Zwecke der Verkürzung der Härtungszeit auf der lichtempfindlichen Schicht und zur Verlängerung der Lebensdauer davon. Somit kann eine stabile Adhäsion zwischen der Kautschukschicht und lichtempfindlichen Schicht gewährleistet werden.

Zusätzlich zu den vorstehenden Komponenten kann die Zusammensetzung für die Silikonkautschukschicht ein bekanntes adhäsionsverleihendes Mittel, wie ein Alkenyltrialkoxysilan oder Verbindungen der folgenden Formeln

und ein hydroxylgruppenhaltiges Organopolysiloxan, ein Silikonöl, bestehend aus Dimethylpolysiloxan, dessen Ende eine Trimethylsilylgruppe ist, Dimethylpolysiloxan mit einer Trimethylsilylgruppe an seinem Ende, ein Silikonöl, bestehend aus einem Phenylmethylpolysiloxancopolymer und/oder einem hydrolysierbaren, funktionelle Gruppen enthaltenden Silan (oder Siloxan), die Komponenten der kondensierten Silikonkautschukschichten sind, umfassen. Weiterhin kann ein bekanntes Füllmittel, wie Siliciumdioxid, der Zusammensetzung zugegeben werden, um die Festigkeit der erhaltenen Silikonkautschukschicht zu erhöhen.

Erfindungsgemäß dient die Silikonkautschukschicht als farbabweisende Schicht. Wenn ihre Dicke zu gering ist, wird das Farbweisungsvermögen verringert, und die erhaltene Schicht wird leicht beschädigt. Wenn andererseits die Dicke zu groß ist, wird die Entwickelbarkeit der erhaltenen vorsensibilisierten Platte verschlechtert. Die Dicke liegt deshalb vorzugsweise bei 0,5 bis 5 µm.

In der vorstehend erläuterten wasserlosen vorsensibilisierten Platte ist es ebenfalls möglich, eine Vielzahl von anderen Silikonkautschukschichten auf der vorstehenden Silikonkautschukschicht aufzubringen. Eine Haftschicht kann zwischen der photopolymerisierbaren, lichtempfindlichen Schicht und der Silikonkautschukschicht aufgebracht werden, um eine Vergiftung durch den in der Zusammensetzung vorliegenden Katalysator zu verhindern und die Adhäsion zwischen der photopolymerisierbaren, lichtempfindlichen Schicht und der Silikonkautschukschicht zu erhöhen.

Die Deckschicht, die erfindungsgemäß verwendet wird, ist eine solche, die aus einem biaxial orientierten Polypropylenfilm mit einer Dicke von 6 bis 22 µm und einer Sauerstoffpermeabilität von 900 bis 10 000 cm³/m²/24 h/atm (bei 20°C) erhalten wird. Eine Mattierungsschicht kann auf diesen Deckschichten angeordnet sein, um die Adhäsion zu einer Originaltransparenz unter Vakuum auf einem Druckrahmen zu verbessern. Wenn die Dicke der Deckschicht geringer als 6 µm ist, kann eine solche Deckschicht nicht gebildet werden aufgrund der unzureichenden mechanischen Festigkeit oder ist sehr teuer, auch wenn eine Schicht hergestellt werden kann. Wenn sie andererseits größer als 22 µm ist, wird die Entfernung zwischen der lichtempfindlichen Schicht und den Bildern auf der Originaltransparenz zu groß und somit verschwimmen die Bilder. Wenn weiterhin die Sauerstoffpermeabilität geringer als 90 cm³/m²/24 h/atm (bei 20°C) ist, wird leicht eine Verschleierung bewirkt; wenn sie größer als 10 000 cm³/m²/24 h/atm (bei 20°C) ist, wird die bildweise Belichtung stark durch den Grad des Vakuums in dem Druckrahmen auf der Belichtungsvorrichtung beeinflußt.

Weiterhin ist die Deckschicht vorzugsweise biaxial orientiert im Hinblick auf ihre Festigkeit.

Um die Adhäsion zwischen der Deckschicht und der Mattierungsschicht zu verbessern, kann die Oberfläche der Deckschicht einer Coronaentladungsbehandlung ausgesetzt werden, und dann kann eine Mattierungsschicht, die teilweise mit einem Polyesterharz oder einem Polyvinylidenchloridharz, enthaltend Siliciumdioxidpulver, beschichtet ist, auf die Deckschicht aufgebracht werden.

Weiterhin kann zur Verhinderung der Adhäsion der Deckschicht, die mit der Hand oder einem Gegenstand abgeschält wird, wenn die Deckschicht abgeschält wird nach der bildweisen Belichtung und vor der Entwicklung, die Deckschicht einer antistatischen Behandlung ausgesetzt werden.

Andere Harze können auf den biaxial orientierten Polypropylenfilm aufgebracht werden oder andere Filme können mit dem biaxial orientierten Polypropylenfilm kombiniert werden, um die Sauerstoffpermeabilität der Deckschicht zu kontrollieren.

Die erfindungsgemäße wasserlose vorsensibilisierte Platte wird zuerst bildweise belichtet durch eine Originaltransparenz und dann mit einem Entwickler, der einen Teil oder die ganzen Bildteile (oder nicht belichteten Bereiche) der photopolymerisierbaren, lichtempfindlichen Schicht lösen oder quellen kann, oder einem Entwickler, der die Silikonkautschukschicht quellen kann, entwickelt. In diesem Fall werden sowohl die bildweise belichteten Teile der lichtempfindlichen Schicht als auch der Silikonkautschukschicht oder nur der Silikonkautschukschicht der Bildteile entfernt in Abhängigkeit von der Festigkeit des Entwicklers.

Der Entwickler, der erfindungsgemäß geeignet ist, kann irgendein bekannter Entwickler zur Entwicklung von wasserlosen vorsensibilisierten Platten sein. Beispiele dafür schließen aliphatische Kohlenwasserstoffe, wie Hexan, Heptan, "Isopar E, H und G" (Handelsname der aliphatischen Kohlenwasserstoffe, erhältlich von Esso Chemical Co., Ltd.), Benzin und Kerosin, aromatische Kohlenwasserstoffe, wie Toluol und Xylol, und halogenierte Kohlenwasserstoffe, wie Trichlen, wozu das folgende polare Lösungsmittel gegeben wird; als auch die polaren Lösungsmittel per se, ein:

- Alkohole, wie Methanol, Ethanol, Propanol, Benzylalkohol, Ethylenglykolmonophenylether, 2-Methoxyethanol, 2-Ethoxy ethanol, Carbitolmonoethylether, Carbitolmonomethylether, Triethylenglykolmonoethylether, Propylenglykolmonomethyl ether, Propylenglykolmonoethylether, Dipropylenglykol monomethylether, Diethylenglykolmonohexylether, Poly ethylenglykolmonomethylether, Propylenglykol, Tripropylenglykol, Polypropylenglykol, Triethylenglykol und Tetraethylenglykol;
- Ketone, wie Aceton und Methylethylketon;
- Ester, wie Ethylacetat, Methyllactat, Ethyllactat, Butyl lactat, Propylenglykolmonomethyletheracetat, Carbitol acetat, Dimethylphthalat und Diethylphthalat; und
- andere polare Lösungsmittel, wie Triethylphosphat und Tricresylphosphat.

Es ist ebenfalls möglich, als Entwickler die vorstehenden Entwickler vom organischen Lösungsmitteltyp, zu denen Wasser gegeben wird; solche, die durch Solubilisieren des vorstehenden organischen Lösungsmittels in Wasser mit Hilfe eines oberflächenaktiven Mittels erhalten werden; solche, die durch Zugabe zu den vorstehenden Entwicklern eines alkalischen Mittels, wie Natriumcarbonat, Monoethanolamin, Diethanolamin, Triethanolamin, Natriumsilikat, Kaliumsilikat, Natriumhydroxid, Kaliumhydroxid oder Natriumborat, erhalten werden; oder gegebenenfalls einfaches Leitungswasser oder ein alkalisches Wasser zu verwenden.

Erfindungsgemäß kann ein Farbstoff, wie Kristallviolett oder Astrazonrot, einem Entwickler zugegeben werden, um die Bilder gleichzeitig mit der Entwicklung zu flecken.

Die Entwicklung der erfindungsgemäßen wasserlosen vorsensibilisierten Platte kann durch jedes bekannte Verfahren durchgeführt werden, beispielsweise durch Reiben der Plattenoberfläche mit einem Entwicklungskissen, enthaltend den vorstehenden Entwickler, oder durch Gießen eines Entwicklers auf die Plattenoberfläche und anschließendes Reiben der Oberfläche mit einer Bürste zur Entwicklung in Wasser. Dadurch werden die Silikonkautschukschicht und die lichtempfindliche Schicht auf den Bildbereichen entfernt, die Oberfläche des Substrats oder der Grundierschicht wird freigesetzt und dient als Farbaufnahmeteil oder nur die Silikonkautschukschicht auf den Bildbereichen wird entfernt und die lichtempfindliche Schicht wird freigesetzt und dient als Farbaufnahmeteil.

Wie vorstehend detailliert erläutert wurde, besitzt die Deckschicht der erfindungsgemäßen wasserlosen vorsensibilisierten Platte eine relativ hohe Sauerstoffpermeabilität von 900 bis 10 000 cm³/m²/24 h/atm (bei 20°C), und demgemäß bewirkt die wasserlose vorsensibilisierte Platte keine sogenannte "Verschleierung", da Sauerstoff als Polymerisationsinhibitor dient, auch wenn die Platte unter Bestrahlung mit weißem Licht stehengelassen wird. Wenn eine übliche wasserlose vorsensibilisierte Platte bildweise mit einem Vakuumkontaktdrucker belichtet wird, verschwimmen die Bilder aufgrund der Gegenwart von Staub zwischen der Platte und einer Originaltransparenz, während erfindungsgemäß die Luft (oder der Sauerstoff), die um den Staub herum vorliegt, als Polymerisationsinhibitor dient, wodurch die Empfindlichkeit des Teils, auf dem der Staub vorliegt, erniedrigt wird, und somit verschwimmen die Bilder kaum. Weiterhin wird die Sensibilisierung mit der Zeit nach der bildweisen Belichtung gut unterdrückt aufgrund der Verwendung eines Polypropylenfilms mit einer relativ hohen Sauerstoffpermeabilität, und somit kann eine wasserlose, vorsensibilisierte Platte mit konstanter Empfindlichkeit erfindungsgemäß hergestellt werden. Weiterhin kann die Deckschicht leicht von der lichtempfindlichen Schicht abgeschält werden.

Andererseits kann in der vorliegenden Erfindung eine Deckschicht mit einer relativ hohen Sauerstoffpermeabilität verwendet werden, und gleichzeitig wird ein Polyurethanharz oder ein Polyamidharz mit einer relativ niedrigen Sauerstoffpermeabilität als Bindemittel für die photopolymerisierbare, lichtempfindliche Schicht verwendet, und der Photopolymerisationsinhibitiator, der in der lichtempfindlichen Schicht verwendet wird, umfaßt (a) eine Dialkylaminoarylcarbonylverbindung und (b) wenigstens eine Verbindung, gewählt aus der Gruppe, bestehend aus Xanthonen, Thioxanthonen, Acridonen, Benzanthronen, Benzophenonen und Anthrachinonen. Deshalb wird die Empfindlichkeit der erfindungsgemäßen wasserlosen vorsensibilisierten Platte überhaupt nicht verringert, und die Polymerisation der lichtempfindlichen Schicht der vorsensibilisierten Platte wird nicht inhibiert aufgrund des Sauerstoffs in der Luft, auch wenn der Grad des Vakuums in dem Vakuumdrucker auf 0,5 atm verringert wird.

Die nachstehenden Beispiele und Vergleichsbeispiele erläutern die Erfindung.

Beispiele 1 bis 3 und Vergleichsbeispiele 1 bis 4

Eine JIS A 1050 Aluminiumplatte mit einer Dicke von 0,3 mm, die auf die übliche Weise entfettet worden war, wurde in eine 1%ige wäßrige Lösung eines Aminosilankupplungsmittels, KBM 603 (erhältlich von Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), getaucht und dann bei Raumtemperatur getrocknet. Die folgende Grundierlösung wurde auf die Aluminiumplatte in einer Beschichtungsmenge von 5 g/m² (gewogen nach dem Trocknen) aufgebracht und bei 140°C über 2 min zum Trocknen und Härten des Films erwärmt.

Komponente
Menge (Gew.-Teile)
SANPRENE IB 1700D (30%ige Lösung eines Polyurethanharzes mit einer endständigen Hydroxylgruppe in Methylethylketon; erhältlich von SANYO CHEMICAL INDUSTRIES, LTD.)
10
TAKENATE D 110N (75%ige Lösung einer polyfunktionellen Isocyanatverbindung in Ethylacetat; erhältlich von Takeda Chem. Ind., Ltd.)	0,2
TiO₂	0,3
Defenser MCF 323 (30%ige Lösung eines fluoratomhaltigen nichtionischen oberflächenaktiven Mittels in Methylisobutylketon; erhältlich von DAINIPPON INK AND CHEMICALS, INC.)	0,03
Propylenglykolmonoethyletheracetat	30

Eine Lösung aus einer photopolymerisierbaren, lichtempfindlichen Zusammensetzung mit der folgenden Zusammensetzung wurde auf die so gebildete Grundierschicht auf der Aluminiumplatte in einer Menge von 3 g/m² (gewogen nach dem Trocknen) aufgebracht und dann bei 100°C über 1 min getrocknet.

Komponente
Menge (Gew.-Teile)
Polyurethanharz, umfassend Isophorondiisocyanat, (1 Mol/Polyesterdiol mit einem Molekulargewicht von 2000 (0,2 Mol), bestehend aus Adipinsäure - Ethylenglykol - Butandiol/Butandiol (0,4 Mol)/Isophorondiamid (0,4 Mol), das einer Kettenverlängerung durch das Diamin ausgesetzt worden ist
1,5
Addukt von Xyloldiamin (1 Mol) mit Glycidylmethacrylat (4 Mol)	0,9
Polyethylenglykoldiacrylat (Molekulargewicht des Polyethylenglykols = 400)	0,6
Photopolymerisationsinitiator (Tabelle I)	×
Naphthalinsulfonat von Victoria Reinblau BOH	0,01
Defenser MCF 323 (30%ige Lösung eines fluoratomhaltigen nichtionischen oberflächenaktiven Mittels in Methylisobutylketon; erhältlich von DAINIPPON INK AND CHEMICALS, INC.)	0,03
Methylethylketon	15
Dimethylsulfonamid	5

Dann wurde eine Lösung einer Zusammensetzung für die Silikonkautschukschicht mit der folgenden Zusammensetzung auf die photopolymerisierbare, lichtempfindliche Schicht in einer Beschichtungsmenge von 2,0 g/m² (auf Trockenbasis) aufgebracht und bei 140°C über 2 min getrocknet, um eine Silikonkautschukschicht zu ergeben.

Ein einseitig mattierter biaxial orientierter Polypropylenfilm mit einer Dicke von 9 µm (Sauerstoffpermeabilität=5000 cm³/m²/24 h/atm, bei 20°C) wurde mit der so hergestellten Silikonkautschukschicht laminiert, so daß die nicht mattierte Seite in Kontakt mit der Silikonkautschukschicht kam, um eine wasserlose, vorsensibilisierte Platte zu ergeben.

Ein positiver Film, tragend Halbtonpunkte (200 Linien/inch) und eine Grauskala mit einer optischen Dichtedifferenz von 0,15 wurde auf die vorsensibilisierte Platte gegeben, und die wasserlose, vorsensibilisierte Platte wurde mit einer Vakuumbelichtungsvorrichtung (erhältlich von Nu Arc Co., Ltd. unter dem Handelsnamen FT261V UDNS ULTRA-PLUS FLIPTOP PLATE MAKER) unter Vakuum oder üblichem Druck über 30 Zählungen belichtet. Dann wurde der Laminatfilm abgeschält, die vorsensibilisierte Platte wurde in ein flüssiges Tripropylenglykol getaucht, bei 40°C über 1 min gehalten, mit einem Entwicklungskissen in Wasser gerieben, um die Silikonkautschukschicht auf den nichtbelichteten Teilen zu entfernen und dadurch eine wasserlose lithographische Druckplatte zu ergeben. Die Grauskalenempfindlichkeit, die beobachtet wurde, wenn die Arten der Photopolymerisationinitiatoren geändert wurden und die bildweise Belichtung unter Vakuum oder bei üblichem Druck durchgeführt wurde und die Halbtonpunktwiedergabe, beobachtet bei der Grauskalenempfindlichkeit, entsprechend den festen Stufen von 9 (ausgedrückt in dem Halbtonpunktbereich der reproduzierbaren Hochlichtteile oder dem Halbtonpunktbereich der schattierten Teile), wenn die bildweise Belichtung unter Vakuum durchgeführt worden war, sind in der folgenden Tabelle I angegeben.

Tabelle I

Wirkung des Unterschieds der Arten der Photopolymerisationsinitiatoren und des Grad des Vakuums während der Belichtung auf die Empfindlichkeit und Halbtonpunktwiedergabe (200 Linien/inch)

Wie aus Tabelle I ersichtlich, war die Polymerisation der lichtempfindlichen Schicht durch Sauerstoff kaum inhibiert, wenn spezifische, erfindungsgemäß verwendete Photopolymerisationsinitiatoren verwendet wurden, und es konnten wasserlose lithographische Druckplatten, die eine gute Halbtonpunktwiedergabe zeigten, gemäß der vorliegenden Erfindung erhalten werden.

Beispiele 4 bis 15 und Vergleichsbeispiele 5 bis 6

Eine Lösung einer Zusammensetzung für eine kondensierte Silikonkautschukschicht mit der folgenden Zusammensetzung wurde auf die gleiche Aluminiumplatte, auf die die gleiche Grundierschicht wie sie in Beispiel 1 verwendet wurde, und eine lichtempfindliche Schicht, die nachstehend definiert ist, aufgebracht worden war, anstelle der Silikonkautschukschicht vom Adhäsionstyp, die in Beispiel 1 verwendet wurde aufgebracht, so daß die Beschichtungsmenge davon 2,0 g/m² (auf Trockenbasis) betrug, und dann bei 120°C über 2 min getrocknet, um eine gehärtete Silikonkautschukschicht zu ergeben.

Ein einseitig mattierter biaxial orientierter Polypropylenfilm mit einer Dicke von 9 µm, der mit dem in Beispiel 1 verwendeten identisch war, wurde mit der so erhaltenen Silikonkautschukschicht laminiert, um eine wasserlose, vorsensibilisierte Platte zu ergeben.

Die Grauskalenempfindlichkeit, die beobachtet wurde, wenn die Arten der Photopolymerisationsinitiatoren geändert wurden und die beispielsweise Belichtung der lichtempfindlichen Schicht der vorsensibilisierten Platte unter Vakuum oder bei üblichem Druck durchgeführt wurde, ist in der folgenden Tabelle II zusammengefaßt. Die Formulierung der lichtempfindlichen Schicht war die gleiche wie in Beispiel 1 mit der Ausnahme, daß die Arten der verwendeten Photopolymerisationsinitiatoren geändert wurden.

Tabelle II

Wirkung des Unterschieds der Arten der Photopolymerisationsinitiatoren und des Grads des Vakuums während der Belichtung auf die Grauskalenempfindlichkeit

Wie aus der Tabelle II ersichtlich ist, war die Polymerisation der lichtempfindlichen Schicht durch Sauerstoff kaum inhibiert, wenn spezifische erfindungsgemäße Photopolymerisationsinitiatoren verwendet wurden, und es konnten wasserlose lithographische Druckplatten, die eine gute Halbtonpunktwiedergabe zeigten, gemäß der vorliegenden Erfindung erhalten werden.

Beispiel 16

Eine JIS A1050 Aluminiumplatte mit einer Dicke von 0,3 mm, die entfettet und einer Silikatbehandlung ausgesetzt worden war, wurde in eine 1%ige Lösung eines PF₆-Salzes von p-Diazodiphenylamin/Paraformaldehydkondensat in Methylcellulosolve getaucht, aus der Lösung entnommen und in Luft zur Trocknung der Platte stehengelassen. Eine Lösung einer Zusammensetzung für die photopolymerisierbare, lichtempfindliche Schicht mit der folgenden Zusammensetzung wurde auf die Oberfläche der so behandelten Aluminiumplatte aufgebracht, so daß die Beschichtungsmenge 4 g/m² (auf Trockenbasis) betrug und dann bei 100°C über 1 min getrocknet.

Komponente
Menge (Gew.-Teile)
Polyamidharz [(1,3-Bis(aminomethyl)cyclohexan (1 Mol)/Cyclohexan-1,4-dicarbonsäure (1 Mol)/Hexamethylendiamin (1 Mol)/Adipinsäure (1 Mol)/ε-Caprolactam (2,2 Mol)]
1,5
Xyloldiamin (1 Mol)/Glycidylmethacrylat (4 Mol Addukt)	0,9
Glycerindiacrylat	0,3
Ethyl Michler's Keton	0,2
2-Chlorthioxanthon	0,1
Defenser MCF 323 (30%ige Lösung eines fluoratomhaltigen nichtionischen oberflächenaktiven Mittels in Methylisobutylketon; erhältlich von DAINIPPON INK AND CHEMICALS, INC.)	0,03
Ethanol	15
Methylcellosolve	5

Dann wurde die gleiche kondensierte Silikonkautschukzusammensetzung, wie in Beispiel 4 verwendet wurde, auf die lichtempfindliche Schicht aufgebracht und getrocknet. Ein einseitig mattierter biaxial orientierter Polypropylenfilm mit einer Dicke von 9 µm, der mit dem in Beispiel 4 verwendeten identisch war, wurde mit der Silikonkautschukschicht laminiert, und die erhaltene wasserlose, vorsensibilisierte Platte wurde durch einen positiven Film über 10 Zählungen unter Vakuum mit einer Vakuumbelichtungsvorrichtung, wie sie in Beispiel 4 verwendet wurde, bildweise belichtet. Dann wurde die Deckschicht abgeschält, die belichtete vorsensibilisierte Platte wurde mit dem gleichen Entwickler, wie er in Beispiel 4 verwendet wurde, entwickelt, um eine wasserlose lithographische Druckplatte zu ergeben.

Beispiel 17 und Vergleichsbeispiel 7

Ein einseitig mattierter Deckfilm, wie er in der folgenden Tabelle III gezeigt ist, wurde mit der Platte, die in Beispiel 3 hergestellt wurde, laminiert, so daß die nichtmattierte Seite des Films in Kontakt mit der Silikonkautschukschicht kam, um eine wasserlose, vorsensibilisierte Platte zu ergeben.

Die vorsensibilisierte Platte wurde unter Vakuum oder üblichem Druck mit der gleichen Belichtungsvorrichtung, wie sie in den Beispielen 1 bis 3 verwendet wurde, bildweise belichtet, um die Grauskalenempfindlichkeit zu bewerten. Die erhaltenen Ergebnisse sind in Tabelle III zusammengefaßt.

Weiterhin wurde der folgende Test durchgeführt, um den Verschleierungsgrad zu untersuchen.

Die vorstehend erhaltene unbelichtete, vorsensibilisierte Platte wurde unter Bestrahlung mit Licht (1000 Lux) von einer weißen fluoreszierenden Lampe von Mitsubishi (PS Neolumisuper FL 40SW/38) stehengelassen. Die Zeit des Stehenlassens wurde bei 5minütigen Abständen bis über 1 h geändert, um Proben zu erhalten, und die Proben wurden auf die gleiche Weise wie in den Beispielen 1 bis 3 entwickelt. Die Verschleierung wurde mit Bezug auf die Zeit, die erforderlich war, bis die Silikonkautschukschicht unentfernbar war, ausgedrückt. Die Sauerstoffpermeabilität jedes Deckfilms wurde durch ein Verfahren zum Messen der Gaspermeabilität von Kunststoffilmen zur Verpackung von Lebensmitteln gemäß JIS Standard Z1707-1975 7.7 bestimmt.

Wie aus der Tabelle III ersichtlich ist, war die Polymerisation der erfindungsgemäßen wasserlosen vorsensibilisierten Platte durch Sauerstoff kaum inhibiert, und die Platte bewirkte kaum eine Verschleierung, auch bei Bestrahlung mit Licht von einer weißen Lampe.

Claims

1. Vorsensibilisierte Platte zur Verwendung bei der Herstellung einer lithographischen Druckplatte, die kein Befeuchtungswasser erfordert, welche ein Substrat mit in Reihenfolge darauf angeordneten folgenden Schichten:

1) eine photopolymerisierbare lichtempfindliche Schicht, die ein Monomer oder Oligomer mit wenigstens einer photopolymerisierbaren, olefinisch ungesättigten Doppelbindung, ein in einem organischen Lösungsmittel lösliches Polyurethanharz oder Polyamidharz, das bei Raumtemperatur fest ist und Filmbildungseigenschaften besitzt, und einen Photopolymerisationsinitiator umfaßt;
2) eine vernetzte Silikonkautschukschicht; und
3) eine transparente Deckschicht

umfaßt, dadurch gekennzeichnet, daß der Photopolymerisationsinitiator (a) eine Dialkylaminoaryl carbonylverbindung und (b) wenigstens eine Verbindung, gewählt aus der Gruppe, bestehend aus Xanthonen, Thioxanthonen, Acridonen, Benzphenonen, die keine Dialkylaminogruppe tragen, Benzanthronen und Anthrachinonen, umfaßt und daß die transparente Deckschicht aus einem biaxial orientierten Polypropylenfilm mit einer Dicke von 6 bis 22 µm und einer Sauerstoffpermeabilität von 900 bis 10 000 cm³/m²/24 h/atm bei 20°C gebildet wird.

2. Vorsensibilisierte Platte nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Dialkylaminoarylcarbonylverbindung aus der Gruppe, bestehend aus 4,4′-Bis(dimethylamino)benzo phenon, 4,4′-Bis(diethylamino)benzophenon, 4,4′-Bis(di propylamino)benzophenon, einer Verbindung der folgenden Formel Dialkylaminostyrylketonverbindungen, dargestellt durch die folgenden allgemeinen Formeln worin R¹, R² und R³ jeweils eine substituierte oder unsubstituierte Alkylgruppe bedeuten mit der Maßgabe, daß R¹ und R² miteinander einen Cycloalkylring bilden können, 2-(p-Dialkylaminophenyl)benzo[4,5]benzoaxol, 2,5-Bis(p-dial kylaminophenyl)-1,3,4-oxadiazol, (worin die Alkylgruppe eine Methyl- oder Ethylgruppe ist), Verbindungen der folgenden allgemeinen Formeln gewählt wird.

3. Vorsensibilisierte Platte nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Xanthone, Thioxanthone, Acridone, Benzophenone, die keine Dialkylaminogruppe tragen, Benzanthrone und Anthrachinone aus der Gruppe, bestehend aus Xanthon, 2-Chlorxanthon, Thioxanthon, 2-Chlorthioxanthon, 2,4-Dimethylthioxanthon, 2,4-Diethylthioxanthon, 2,4-Dichlorthioxanthon, 2,4-Diisopropylthioxanthon, 2-Dodecylthioxanthon, 2-Methyl- (5-8)-ethylesterthioxanthon, Octylester von Thioxanthondicarbonsäure, 1-Chloranthrachinon, 2-Chloranthrachinon, 2-Ethylanthrachinon, 2-t-Butylanthrachinon, 1-Chlor-N-methylacridon, 3-Chlor-N-methylacridon, 2,3-Dichlor-N-methylacridon, 2-Chlor-N-ethylacridon, 2-Chlor-N-butylacridon, 3-Chlor-N-benzylacridon, N-Benzylacridon, N-Butylacridon, N-Ethylacridon, Benzophenon, Benzanthron, 3-Chlorbenzanthron und Dichlorbenzanthron, gewählt werden.

4. Vorsensibilisierte Platte nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Gesamtmenge des Photopolymerisationsinitiators 0,1 bis 20 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht der Zusammensetzung für die lichtempfindliche Schicht, beträgt und das Gewichtsverhältnis des Initiators (a) zu dem Initiator (b) bei 10 : 1 bis 1 : 10 liegt.

5. Vorsensibilisierte Platte nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Gesamtmenge des Photopolymerisationsinitiators 3 bis 15 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht der Zusammensetzung für die lichtempfindliche Schicht, beträgt und das Gewichtsverhältnis des Initiators (a) zu dem Initiator (b) bei 5 : 1 bis 1 : 5 liegt.

6. Vorsensibilisierte Platte nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß sie weiterhin eine Mattierungsschicht, die auf der Deckschicht aufgebracht ist, umfaßt.

7. Vorsensibilisierte Platte nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Oberfläche der Deckschicht einer Koronaentladungsbehandlung ausgesetzt ist und dann eine Mattierungsschicht, die teilweise mit einem Polyesterharz oder einem Polyvinylidenchloridharz, enthaltend Siliciumdioxidpulver, bedeckt ist, auf die Deckschicht aufgebracht wird.

8. Vorsensibilisierte Platte nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der biaxial orientierte Polypropylenfilm mit einem anderen Harz bedeckt ist oder mit einem anderen Film kombiniert ist.

9.Vorsensibilisierte Platte nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Menge der aufgebrachten Grundierschicht 0,5 bis 20 g/m², ausgedrückt als Gewicht, bestimmt nach dem Trocknen, beträgt.

10. Vorsensibilisierte Platte nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die photopolymerisierbare, lichtempfindliche Schicht weiterhin andere Polymerverbindungen mit filmbildenden Eigenschaften umfaßt.

11. Vorsensibilisierte Platte nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß das Verhältnis der Summe des Polyurethan- oder Polyamidharzes und der polymeren Verbindung mit filmbildenden Eigenschaften zu der Menge des Monomers oder des Oligomers bei 99 : 1 bis 30 : 70 liegt.

12. Vorsensibilisierte Platte nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Menge der Zusammensetzung zur Bildung der photopolymerisierbaren, lichtempfindlichen Schicht, die aufgebracht wird, bei etwa 0,1 bis 10 g/m² auf Trockenbasis liegt.

13. Vorsensibilisierte Platte nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß die Menge der Zusammensetzung zur Bildung der photopolymerisierbaren, lichtempfindlichen Schicht, die aufgebracht wird, bei etwa 0,5 bis 5 g/m² auf Trockenbasis liegt.

14. Vorsensibilisierte Platte nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die vernetzte Silikonkautschukschicht eine Schicht aus einem teilweise oder vollständig vernetzten Polydiorganosiloxan mit den folgenden wiederkehrenden Einheiten ist, worin R eine einwertige Gruppe, gewählt aus der Gruppe, bestehend aus Alkyl-, Aryl- und Alkenylgruppen und einer Kombination daraus, die funktionelle Gruppen, gewählt aus der Gruppe, bestehend aus Halogenatomen, Aminogruppen, Hydroxylgruppen, Alkoxygruppen, Aryloxygruppen, (Meth)acryloxygruppen und Thiolgruppen, enthalten können, bedeutet.

15. Vorsensibilisierte Platte nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die vernetzte Silikonkautschukschicht weiterhin wenigstens eine Verbindung, gewählt aus der Gruppe, bestehend aus Siliciumdioxid, Calciumcarbonat, Titanoxid, Silankupplungsmitteln, Titanatkupplungsmitteln, Aluminiumkupplungsmitteln und Photopolymerisationsinitiatoren, umfaßt.

16. Vorsensibilisierte Platte nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die vernetzte Silikonkautschukschicht weiterhin ein Silanvernetzungsmittel, dargestellt durch die folgende allgemeine Formel R_nSiX_4-nworin n eine ganze Zahl von 1 bis 3 ist; R wie vorstehend definiert ist; X -OH, -OR², -OAc, -O-N=CR²R³, -Cl, -Br oder -I (worin R² und R³ identisch ist mit R und Ac eine Acetylgruppe bedeutet) bedeutet, und/oder einen Katalysator umfaßt.

17. Vorsensibilisierte Platte nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die vernetzte Silikonkautschukschicht eine Silikonkautschukschicht vom kondensierten Additionstyp ist.

18. Vorsensibilisierte Platte nach Anspruch 17, dadurch gekennzeichnet, daß die Silikonkautschukschicht vom kondensierten Additionstyp durch Härten und Vernetzen einer Zusammensetzung gebildet wird, die

1) 100 Gew.-Teile eines Organopolysiloxans mit wenigstens zwei Alkenylgruppen, die direkt an das Siliciumatom gebunden sind, pro Molkül;
2) 0,1 bis 1000 Gew.-Teile eines Organowasserstoffpolysiloxans, das wenigstens zwei ≡SiH-Bindungen in dem Molekül trägt;
3) 0,00001 bis 10 Gew.-Teile eines Additionskatalysators umfaßt.

19. Vorsensibilisierte Platte nach Anspruch 18, dadurch gekennzeichnet, daß das Molekulargewicht der Komponente (1) 1000 übersteigt.

20. Vorsensibilisierte Platte nach Anspruch 1, dadurch gekenzeichnet, daß die Dicke der Silikonkautschukschicht bei 0,5 bis 5 µm liegt.